扫描投影光刻机是利用反射镜系统把掩模版图形投影到硅片表面的光刻设备 。其掩模版为一倍，图形尺寸相同 。中国科学院上海光学精密机械研究所于1985年研制出扫描式投影光刻机 ，上海微电子（SMEE）生产有SSA600/20、SSX600系列等产品 。
该设备光学系统包括两个同心球面镜组成的环带视场投影系统、三个相互垂直平面镜构成的正象反光镜组等部分 。采用KrF或ArF准分子激光光源，可将工艺推进至深亚微米及百纳米级 。上海微电子量产的SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜 。
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