欠电位沉积（Underpotential Deposition，UPD）是指金属在比其热力学可逆电位更正的电位下沉积于另一基体的电化学现象 。该现象与沉积原子和基体原子间的相互作用能差异相关，通常仅形成单层或亚单层结构 。其机制在单原子催化剂制备、甲醇电催化氧化及调控电极表面电子结构以增强界面电荷输运等方面具有应用关联 。
欠电位沉积是电化学领域经久不衰的研究热点，其理论研究主要围绕沉积热力学与动力学展开。研究方法包括循环伏安法、现场扫描隧道显微镜及单颗粒光谱技术等 。利用贱金属的欠电位沉积来干预贵金属电沉积，是研制纳米材料的重要基础 。
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